مخزن ذخیره شده PTFE برای هیدروکسید تترامتیل آمونیوم

مخزن ذخیره سازی هیدروکسید آمونیوم تترامتیل آمونیوم رانا با PTFE روکش شده است ، که برای برآورده کردن قلیایی قوی و نیازهای خلوص بالا از هیدروکسید Trimethylammonium {0} درجه (TMAH) طراحی شده است. TMAH معمولاً در تمیز کردن ویفرهای نیمه هادی و توسعه نوری ها مورد استفاده قرار می گیرد و نسبت به ناخالصی هایی مانند یونهای فلزی بسیار حساس است. عدم تحرک شیمیایی PTFE مانع از شستشوی مواد مخزن از آلاینده ها می شود و اطمینان حاصل می کند که TMAH ذخیره شده خلوص خود را حفظ می کند. علاوه بر این ، نفوذپذیری کم PTFE از ورود رطوبت یا CO₂ جلوگیری می کند ، بنابراین از کاهش غلظت TMAH به دلیل جذب رطوبت یا کربن جلوگیری می شود.

مخزن ذخیره سازی در درجه اول در تولید مواد شیمیایی الکترونیکی و تولید نیمه هادی استفاده می شود. دیوار داخلی آن دارای یک طراحی صاف و یکپارچه است که خطر باقیمانده مواد را کاهش می دهد و جایگزینی راه حل های TMAH دسته ها یا مشخصات مختلف را تسهیل می کند. علاوه بر این ، مخزن با مواد مهر و موم شده درجه - ساخته شده است ، و نیازهای دقیق برای Ultra -}} محیط های ذخیره سازی تمیز در صنعت نیمه هادی را برآورده می کند. این تجهیزات برای اطمینان از دقت فرآیندهای تولید تخته هسته ضروری است.

تگ های محبوب: مخزن ذخیره شده PTFE برای هیدروکسید تترامتیل آمونیوم ، کشتی های روکش شده برای مواد شیمیایی درجه یک